美开发成功新一代高级抗蚀剂

编号 zgly0000430046

文献类型 期刊论文

文献题名 美开发成功新一代高级抗蚀剂

母体文献 上海化工 

年卷期 2006,31(5)

页码 40-40

年份 2006 

分类号 TN305.7  S753.7 

关键词 抗蚀剂  开发  高级  一代  防反射膜  电子材料  制造过程  检测极限  保护膜  印刷术 

文摘内容 美国罗姆-哈斯电子材料公司最近开发成功一种高级抗蚀剂, 它在新一代半导体制造过程中用于浸渍平版印刷术中。
新抗蚀剂不需配置一个保护膜, 但需配装一套双层防反射膜以能完全地预防反射。从新抗蚀剂内浸滤酸类和其他化学品, 可影响产品的性能, 所以必须保持在检测极限以下。公司早些时候开发出一种带有保护膜的抗蚀剂。