真空环境下飞秒激光制备的微构造硅的吸收和退火特性

编号 zgly0000853696

文献类型 期刊论文

文献题名 真空环境下飞秒激光制备的微构造硅的吸收和退火特性

作者 陈向前  彭滟  方丹  周云燕  刘姝祺  蔡斌  朱亦鸣 

作者单位 教育部光学仪器与系统工程研究中心 上海市现代光学系统重点实验室 上海理工大学光电信息与计算机工程学院 

母体文献 红外与激光工程 

年卷期 2014(2)

页码 398-403

年份 2014 

关键词 黑硅  微构造  吸收效率  退火  红外传感器 

文摘内容 在真空环境下利用飞秒激光制备的黑硅材料,其形貌与SF6气氛中制备的黑硅材料有着很大的区别。为了研究这种真空环境下制备的微构造硅的相关光学特性,通过改变入射脉冲能量研究其峰值变化以及吸收特性,发现当峰值达到一定高度时其对200~2500nm波段的光波有95%左右的吸收效率,这与SF6气氛中制备的微构造硅的吸收效率不相上下。最后对两种环境下制备的黑硅样品进行退火处理,发现真空环境下制备的黑硅材料比SF6气氛中制备的黑硅样品具有更好的耐退火性。这些结果对于利用真空环境下制备的微构造硅制作红外传感器具有重要意义。