RTV涂层染污后憎水性迁移影响因素的研究

编号 zgly0000736703

文献类型 期刊论文

文献题名 RTV涂层染污后憎水性迁移影响因素的研究

作者 徐志钮  律方成  李嫚  李和明  董亮  王亚男 

作者单位 华北电力大学生物质发电成套设备国家工程实验室 

母体文献 高压电器 

年卷期 2011,47(4)

页码 7-12

年份 2011 

分类号 TM215.2 

关键词 室温硫化  染污  憎水性  迁移  影响因素 

文摘内容 研究室温硫化(room temperature vulcanization,RTV)硅橡胶涂层染污后憎水性迁移及其影响因素对RTV的应用具有指导意义。笔者以盐和灰的混合物模拟现场污秽,通过静态/动态接触角法表征憎水性,研究了迁移时间、温度、湿度、盐类型、灰类型、盐密、灰密对RTV涂层憎水性迁移速度的影响。结果表明: 随着迁移时间的增加憎水性逐渐变好,迁移完全样本的接触角大于洁净样本;随温度增加迁移速度变快,且温度越高速度增加越快;随相对湿度增加迁移速度减慢,迁移所需时间非线性增大;ZnSO4迁移速度最快,NaNO3、NaCl、CaSO4相近;灰为硅藻土时污层的迁移速度快于高岭土的;随盐密/灰密(污秽度)的增加迁移速度有下降的趋势。