荷兰设备商Mapper获欧盟350万欧元资助 开发无掩膜光刻技术

编号 zgly0000591728

文献类型 期刊论文

文献题名 荷兰设备商Mapper获欧盟350万欧元资助 开发无掩膜光刻技术

母体文献 电子工业专用设备 

年卷期 2008,37(3)

页码 26-26

年份 2008 

分类号 TN305.7  S771.8 

关键词 光刻技术  Mapper  开发  设备商  抗反射涂层  资助  欧盟  荷兰 

文摘内容 EE Times日前报道：IBM、Rohm＆Haas电子材料部日前签署了一项共同开发协议，针对目前光刻技术的主要问题，为32nm及以下节点设计开发新型抗反射材料。双方计划开发全新248nm和193nm波长材料，包括底部抗反射涂层(BARC)和顶端抗发射涂层(TARC)。