用超纯蒸气控制水沾污

编号 zgly0000616529

文献类型 期刊论文

文献题名 用超纯蒸气控制水沾污

作者 邓志杰（摘译） 

母体文献 现代材料动态 

年卷期 2009(3)

页码 12-12

年份 2009 

分类号 TQ440.6  TK224.9 

关键词 沾污  制水  气控  超纯  半导体加工  快速热退火  原子层沉积  水蒸气 

文摘内容 多种半导体加工，如扩散、快速热退火、原子层沉积、腐蚀和深紫外线光刻等，目前都把水蒸气作为制程的“一部分”。去离子水蒸气是一种极好的清洗剂，随着器件特征尺寸不断减小，用它代替液态水的优点日益凸现，其优点主要是：可快速进入目标，具有大的高宽比纳米结构，易于对清洗溶液进行化学改进，易于溶解污染物。由液态变为蒸气，