弱光胁迫下黄瓜苗期下胚轴性状的遗传分析

编号 zgly0001373788

文献类型 期刊论文

文献题名 弱光胁迫下黄瓜苗期下胚轴性状的遗传分析

作者 李丹丹  司龙亭  罗晓梅  李涛 

作者单位 沈阳农业大学园艺学院 

母体文献 西北农林科技大学学报(自然科学版 

年卷期 2009年11期

年份 2009 

分类号 S642.2 

关键词 黄瓜(Cucumis.sativus.L)  弱光胁迫  下胚轴长  下胚轴粗  遗传分析 

文摘内容 【目的】阐明弱光胁迫下黄瓜下胚轴性状的遗传特点。【方法】以耐弱光黄瓜品系M22与不耐弱光黄瓜品系M14及其F1、F2、回交世代（B1、B2）为试验材料,应用F2群体分离分析方法与主基因+多基因模型分析法,于2007和2008年对弱光（日平均光强为100μmol/（m2.s））条件下黄瓜的下胚轴长与下胚轴粗进行遗传分析。【结果】群体分离分析结果表明,黄瓜F2代群体中下胚轴粗和下胚轴长性状遗传变异幅度均较小,其中下胚轴粗在2007和2008年的变异幅度分别为0.258和0.226cm,下胚轴长分别为8.5和4.5cm;广义遗传力较低,其中下胚轴粗在2007和2008年的广义遗传力分别为0.54和0.62,下胚轴长为0.60和0.69,表明不宜在F2代进行性状选择。主基因-多基因遗传分析表明,黄瓜下胚轴粗的遗传受1对加性主基因-加性-显性多基因模型（D2）控制,B1、B2、F2世代主基因遗传率分别为27.03%,56.25%和60.38%。下胚轴长遗传受加性-显性-上位性多基因（C0）控制,B1、B2、F2代多基因遗传率分别为74.38%,63.29%和83.37%。【结论】下胚轴粗遗传以主基因遗传为主;下胚轴长性状主要由微效多基因控制,受环境影响很大,不宜进行早代选择。