大豆种荚应答镰刀菌侵染的叶绿素荧光成像规律

编号 zgly0001697213

文献类型 期刊论文

文献题名 大豆种荚应答镰刀菌侵染的叶绿素荧光成像规律

作者 龙希洋  肖新力  张启辉  杨文钰  刘江  张静 

作者单位 四川农业大学农业部西南作物生理生态与耕作重点实验室  四川农业大学生态农业研究所  四川农业大学园艺学院 

母体文献 浙江农林大学学报 

年卷期 2020年03期

年份 2020 

分类号 S565.1 

关键词 大豆  种荚  轮枝镰刀菌  叶绿素荧光成像  抗性鉴定 

文摘内容 【目的】种荚是大豆Glycine max防御霉菌侵染的第1道防线,部分大豆品种种荚具有极佳的田间霉变抗性,本研究目的在于寻找与豆荚霉变抗性相关的快速鉴定指标。【方法】采用叶绿素荧光成像技术,以高抗大豆‘QWT15-2’、中抗大豆‘E1’和易感大豆‘E314’为研究对象,对离体种荚接种轮枝镰刀菌Fusarium verticillioides,监测其叶绿素荧光参数变化情况。【结果】大豆种荚接种霉菌24 h后,通过叶绿素荧光成像系统可清晰观察到豆荚表皮病斑,叶绿素荧光参数发生显著变化。霉菌侵染后0～5 d,大豆种荚初始荧光参数初始荧光（Fo）、最大荧光（Fm）、可变荧光（Fv）大幅降低,非光化学猝灭系数qN上升、QNP下降,最大光化学量子产量（Fv/Fm）、实际光化学效率（ΦPSⅡ）及电子传递速率（RET）均呈下降趋势。【结论】高抗大豆‘QWT15-2’维持了较健康的组织形态,各荧光参数表现稳定;中抗大豆‘E1’和感病大豆‘E314’受霉菌侵染影响,其表皮组织破坏严重、荧光参数变化幅度大;其中Fv/Fm、Fm、Fv、q N和QNP荧光参数对霉菌侵染响应敏感,可作为评价大豆种荚田间霉变抗性的鉴定指标。图4参17