硅烷偶联剂/二氧化硅界面层的表征研究

编号 zgly0001097019

文献类型 期刊论文

文献题名 硅烷偶联剂/二氧化硅界面层的表征研究

作者 华仲强  林永渭  吴叙勤  张元民 

作者单位 华东化工学院高分子材料系  华东化工学院高分子材料系 

母体文献 复合材料学报 

年卷期 1988年03期

年份 1988 

关键词 椭偏仪  界面层  硅烷偶联剂  自编程序  面层厚度  超薄层  激光源  水溶液处理  图形分析  膜系 

文摘内容 本文为研究γ-MPS/SiO2界面层厚度与形态,使用自编程序,通过计算机数值模拟和图形分析后确定:当SiO2膜厚为1250～1450A,激光源入射角为65～75°的最佳椭偏仪测定条件时,灵敏度可提高至1A,从而能在国产椭偏仪上对10A左右的界面超薄层膜具有足够的测试灵敏度。实验中应用的SiO2/Si平片是一种新的适宜于作界面研究的玻纤模型。由此模型凭借椭偏仪和扫描电镜,可获得经γ-MPS水溶液处理再经溶剂淋洗后形成的γ-MPS/SiO2界面层的重要信息:界面层结构是1～2个单分子层;形态为连续的膜层,偶尔可见被淋洗去的γ-MPS水解介聚物残留的边缘隆起的椭圆形凹坑。