太阳选择性吸收涂层系列讲座(14) 活性环境空心阴极溅射特性与沉积Al_2O_3、ZnO掺杂和In_2O_3:Mo薄膜的应用(下)

编号 zgly0000887618

文献类型 期刊论文

文献题名 太阳选择性吸收涂层系列讲座(14) 活性环境空心阴极溅射特性与沉积Al_2O_3、ZnO掺杂和In_2O_3:Mo薄膜的应用(下)

作者 Delahoy A E  Guo S Y  Paduraru C  范崇治 

作者单位 清华大学 

母体文献 太阳能 

年卷期 2014(8)

页码 39-41

年份 2014 

关键词 阴极溅射  透明导电氧化物  氧化物薄膜  氧分压强  Al_2O_3  In_2O_3  Mo  ZnO  反应磁控溅射  直流溅射  光伏器件 

文摘内容 2.4 ZnO掺杂透明导电氧化物沉积透明导电氧化物薄膜,例如SnO2、ITO、ZnO,有很多应用,如建筑玻璃、汽车、显示器、光伏器件。制备掺杂氧化锌膜用射频或脉冲直流溅射陶瓷靶,它含有ZnO和2%(重量比)Al2O3,无论如何靶的代价是过高的,而能用的功率密度是有限的。最近反应磁控溅射Zn:Al靶受到关注,虽然它需电压控制和氧分压强的闭环控制以保证工作在金属/氧化物过渡模式。